SiC-plate for ICP-etsing

Funksjonskrav: Optimalisert for krevende plasmamiljøer

For å møte de strenge kravene til ICP-etsemiljøer, må SiC-platen ha følgende kjerneegenskaper:

● Utmerket varmeledningsevne

SiC har ekstremt høy varmeledningsevne, som langt overgår tradisjonelle materialer som kvarts eller alumina. Dette betyr at den effektivt kan lede varmen som genereres under etseprosessen bort fra waferen, og dermed effektivt forhindre lokal overoppheting.

Fordeler: Sørg for jevn temperatur over hele waferoverflaten, noe som resulterer i svært konsistent etsedybde og kontroll av kritisk dimensjon (CD), noe som forbedrer utbyttet betydelig og reduserer waferskrap.

● Overlegen plasmasjokkmotstand

I plasmamiljøet under ICP-etsing vil materialet bli utsatt for høyenergi-ionbombardement og kjemisk korrosjon av aktive frie radikaler. SiC har utmerket plasmaresistens, spesielt i fluor- eller klorholdige etsegasser.

Fordeler: Forleng levetiden til waferbæreren betraktelig, reduser utskiftingsfrekvensen og nedetid, og reduserer dermed driftskostnadene og forbedrer utnyttelsen av utstyr. Samtidig reduserer stabile materialegenskaper også risikoen for partikkelforurensning.

● Enestående temperaturuniformitet

Kombinert med høy varmeledningsevne og lav varmeutvidelseskoeffisient, er SiC-bærere i stand til å opprettholde utmerket temperaturjevnhet over hele waferoverflaten. Dette er avgjørende for presis etsing, spesielt for sensitive materialer som GaN.

Fordeler: Sørg for konsistent etsing for hver enhet, minimer variasjoner i enhetens ytelse og gi LED-produktene dine overlegen kvalitet og pålitelighet.

Disse ytelsesegenskapene er avgjørende for å oppnå repeterbar og presis etsning i LED-waferfabrikasjon.

Hvorfor velge Semixlab: Skreddersydde løsninger. Pålitelig kvalitet

Å velge Semixlab betyr at du velger ytelse, pålitelighet og tilpassede tjenester:

1. En rekke spesifikasjoner er tilgjengelige, og tilpassede tjenester tilbys:

Vi er godt klar over at ulikt ICP-etseutstyr og -prosesser har unike krav til størrelse, hullposisjon og klemmemetode for waferbærere. Semixlab tilbyr en rekke standardspesifikasjoner for SiC-waferbærere for å møte behovene i det vanlige markedet.

Enda viktigere er det at vi tilbyr profesjonelle tilpasningstjenester. Enten du trenger spesielle størrelser, komplekse strukturelle design eller optimalisering for spesifikke prosesser, kan vårt ingeniørteam samarbeide tett med deg for å tilby skreddersydde løsninger. Dette betyr at du kan få en transportør som passer perfekt til utstyret og prosessen din, og maksimerer produksjonseffektiviteten og utbyttet.

2. Stabil kvalitet og rask levering

Vårt strenge kvalitetskontrollsystem sikrer konsistens på tvers av partier, mens vår effektive produksjon og logistikk garanterer raske leveringstider, slik at du kan overholde stramme produksjonsplaner.

Stol på Semixlab – din SiC-materialpartner innen avansert plasmaetsing

Med årelang erfaring innen halvlederbeleggindustrien kombinerer Semixlab dyp materialekspertise, toppmoderne prosessering og kundefokusert service for å levere komponenter som forbedrer prosessstabilitet og produktkvalitet.

Bruksområde: Utviklet for ICP-etsing i LED-industrien

I den avanserte LED-produksjonsprosessen er ICP-etsing (induktivt koblet plasma) et kritisk trinn for å oppnå presis mikromønstring på halvlederskiver. Semixlabs SiC-plate fungerer som en svært pålitelig skivebærer eller -holder under ICP-etseprosessen. De robuste materialegenskapene sikrer prosessstabilitet selv under ekstreme plasmaforhold, noe som gjør den til en viktig komponent for LED-produksjonslinjer med høy avkastning og høy ensartethet.