Kvartsring 150mm

Som en plasmaeksponert komponent er kvartsringen designet for å operere i høyenergimiljøer samtidig som den opprettholder strukturell stabilitet og prosesskonsistens.

Nøkkel produktinformasjon

Materiale og fordeler

AMAT Quartz Ring 150 mm er produsert av smeltet kvarts (SiO₂) av halvlederkvalitet, et materiale som er allment anerkjent for sin utmerkede ytelse i plasmabehandlingsmiljøer.

Viktige fordeler med smeltet kvarts:

Ultralav forurensning

Høyrent kvarts inneholder ekstremt lave nivåer av metalliske urenheter, noe som minimerer risikoen for waferforurensning og støtter avanserte standarder for halvlederproduksjon.

Utmerket plasmamotstand

Kvarts tilbyr sterk motstand mot ionbombardement og plasmaerosjon, noe som gjør den egnet for langvarig bruk i sputteretsing og plasmakamre.

Høy termisk stabilitet

Materialet opprettholder sin strukturelle integritet under høye temperaturer og rask termisk sykling, noe som sikrer jevn ytelse under bearbeiding.

Elektrisk isolasjon

Som et ikke-ledende materiale bidrar kvarts til å stabilisere det elektriske feltet i kammeret, noe som bidrar til jevn plasmafordeling.

Kjemisk treghet

Kvarts er motstandsdyktig mot reaktive gasser som brukes i halvlederprosesser, noe som reduserer nedbrytning og forlenger komponentenes levetid.

Disse egenskapene gjør smeltet kvarts til et ideelt materiale for kammerkomponenter utsatt for plasma og høye temperaturforhold.

Funksjon inne i halvlederutstyr

AMAT Quartz Ring 150 mm utfører flere kritiske funksjoner i plasmabehandlingskamre, og påvirker direkte prosessstabilitet og waferkvalitet.

1. Plasmainnkapsling og -kontroll

Kvartsringen bidrar til å definere plasmagrenseområdet, kontrollere ionfordelingen og stabilisere plasmaets oppførsel i kammeret. Dette bidrar til repeterbare og konsistente prosessforhold.

2. Optimalisering av kantuniformitet

Ringen er plassert nær kanten av skiven og spiller en viktig rolle i:

● Regulering av plasmatetthet ved waferens omkrets

● Redusere kanteffekter

● Forbedring av ets- eller avsetningsuniformitet

Dette er viktig for å opprettholde kontroll over kritisk dimensjon (CD) og total waferutbytte.

3. Kammerbeskyttelse

Som en offerkomponent absorberer kvartsringen:

● Forstøvede materialer

● Ets biprodukter

● Plasmaeksponering

Dette bidrar til å beskytte kritiske kammerkomponenter som metallvegger, foringer og elektrostatiske chucker mot skade og forurensning.

4. Forbedring av prosessstabilitet

Ved å opprettholde konsistent geometri og materialegenskaper, støtter kvartsringen:

● Stabile gassstrømningsmønstre

● Kontrollert plasmainteraksjon

● Redusert partikkelgenerering

Dette fører til slutt til forbedret prosessrepeterbarhet og redusert nedetid.